摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
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专利专题

摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术共(3432篇)

561.光刻照明装置

发明专利 有权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 G G03 G03F G03F7 申请日期:2009-01-21申请人:上海微电子装备有限公司
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562.光刻照明装置及照明方法

发明专利 有权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 G G03 G03F G03F7 申请日期:2009-02-11申请人:上海微电子装备有限公司
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563.光刻版夹具

实用新型 无权
分类号: G03F1/00(2006.01)I G G03 G03F G03F1 G G03 G03F G03F1 申请日期:2009-01-28申请人:深圳深爱半导体有限公司
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564.光刻用掩模及光刻用掩模数据的形成方法、背照射型固体摄像器件及其制造方法和电子装置

发明专利 无权
分类号: G03F1/00(2006.01)I G G03 G03F G03F1 申请日期:2009-09-30申请人:索尼株式会社
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565.光刻用防护薄膜组件

发明专利 有权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 G G03 G03F G03F7 申请日期:2009-01-21申请人:信越化学工业株式会社
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566.光刻系统

发明专利 无权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 G G03 G03F G03F7 申请日期:2009-02-11申请人:株式会社ORC制作所
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567.光刻系统及其可变狭缝与掩模台中心偏差的测量方法

发明专利 有权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期:2009-09-09申请人:上海微电子装备有限公司
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568.光刻胶图案的修补方法

发明专利 无权
分类号: G03F1/00(2006.01)I G G03 G03F G03F1 申请日期:2009-10-28申请人:东捷科技股份有限公司
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569.光刻胶掩模图形的显影方法

发明专利 有权
分类号: G03F7/36(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期:2009-06-10申请人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
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570.光刻胶掩模方法

发明专利 有权
分类号: G03F7/00(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期:2009-05-20申请人:北京京东方光电科技有限公司
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571.光刻胶残渣及聚合物残渣去除液组合物

发明专利 无权
分类号: G03F7/42(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期:2009-09-02申请人:关东化学株式会社
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572.光刻胶涂覆方法

发明专利 无权
分类号: G03F7/16(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期:2009-12-02申请人:上海宏力半导体制造有限公司
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573.光刻胶用量检测方法和系统、数据分类采集系统

发明专利 无权
分类号: G03F7/16(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期:2009-11-04申请人:中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
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574.光刻胶的去除方法

发明专利 无权
分类号: G03F7/42(2006.01)I G G03 G03F G03F7 G G03 G03F G03F7 申请日期:2009-01-28申请人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
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575.光刻胶的硅化方法及形成光刻胶掩模图形的方法

发明专利 无权
分类号: G03F7/26(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期:2009-06-17申请人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
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576.光刻胶组成物及其图案化方法

发明专利 有权
分类号: G03F7/004(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期:2009-08-05申请人:东友精化股份有限公司
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577.光刻装置及器件制造方法

发明专利 有权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期:2009-09-02申请人:ASML荷兰有限公司
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578.光刻装置和器件制造方法

发明专利 有权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 G G03 G03F G03F7 申请日期:2009-01-21申请人:ASML荷兰有限公司
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579.光刻装置和器件制造方法

发明专利 有权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期:2009-07-01申请人:ASML荷兰有限公司
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580.光刻装置和器件制造方法

发明专利 有权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期:2009-07-22申请人:ASML荷兰有限公司
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