光刻照明装置及照明方法

摘要：

本发明提供了一种基于空间光调制器的光刻照明装置及照明方法，采用SLM(液晶空间光调制器)来衍射产生各种照明光瞳形貌。每个像素对光波相位的调制可通过寻址电压来进行控制，并且具有可编程控制的特点，可以利用优化算法，优化设计SLM的相位值来产生任意的照明光瞳形貌。无需针对不同的照明模式来离线设计衍射光学元件，无需设置机械转盘，操作灵活，只需计算机编程进行在线控制，具有较高的响应速度，提高了产率。本发明可以提供更多的照明光瞳形貌，满足了一些特殊光刻线条的需要。本发明可灵活改变入射光波的偏振方向，在具有较大数值孔径的浸液光刻系统中可提供偏振照明。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200810042099.6

申请日期：2008-08-27

公开/公告号：CN101364048

公开/公告日：2009-02-11

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:上海微电子装备有限公司

发明/设计人:郭 勇

主申请人地址:201203上海市张江高科技园区张东路1525号

专利代理机构:上海思微知识产权代理事务所

代理人:屈 蘅%李时云

国别省市代码:上海;31

权利要求：

1、一种光刻照明装置，按光束传播的方向依次包括：光源系统，用以产生照射光束；空间光调制系统，包括空间光调制器和控制设备；匀光系统，用于控制照射光束；掩模；其特征在于：所述光源系统发出照射光束，经过所述空间光调制器、匀光系统，照射所述掩模。