光刻用防护薄膜组件

摘要：

本发明提供一种光刻用防护薄膜组件，其目的在于达到即使在掩模上粘贴防护薄膜组件，掩模也不会产生应变的效果。在本发明的光刻用防护薄膜组件中，用来将防护薄膜组件粘贴于掩模上的掩模黏着剂具有平坦面，且该面的平坦度在15μm以下。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200810125314.9

申请日期：2008-06-18

公开/公告号：CN101349873

公开/公告日：2009-01-21

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:信越化学工业株式会社

发明/设计人:白崎享

主申请人地址:日本东京都

专利代理机构:北京市柳沈律师事务所

代理人:陶凤波

国别省市代码:日本;JP

权利要求：

1.一种光刻用防护薄膜组件，其特征为：在使用于半导体光刻的防护薄膜组件中，用来将该防护薄膜组件粘贴于掩模上的掩模黏着剂具有平坦的面，且该面的平坦度在15μm以下。