光刻装置及器件制造方法

摘要：

本发明公开一种湿浸式光刻装置的基底台，包括用于收集液体的阻挡构件。该阻挡构件环绕基底并与基底分隔开。按照这种方式，可以收集从供液系统溢出的任何液体，并降低光刻投影装置的精密部件受污染的危险。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200910133537.4

申请日期：2005-04-13

公开/公告号：CN101520611

公开/公告日：2009-09-02

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:ASML荷兰有限公司

发明/设计人:A·Y·科勒斯恩臣科;J·J·M·巴塞曼斯;S·N·L·多纳斯;C·A·胡根达姆;H·詹森;J·J·S·M·梅坦斯;J·C·H·穆肯斯;F·G·P·皮特斯;B·斯特里科克;F·J·H·M·特尤尼斯森;H·范桑坦

主申请人地址:荷兰维尔德霍芬

专利代理机构:中科专利商标代理有限责任公司

代理人:王波波

国别省市代码:荷兰;NL

权利要求：

1. 一种光刻装置，包括：用于保持构图部件的支撑结构，所述构图部件用于给辐射光束的截面赋予图案；用于保持基底的基底台；用于将带图案的光束投射到所述基底的目标部分上的投影系统；以及用于向基底的局部区域、基底台或其两者供应液体的供液系统，以至少部分地填充所述投影系统与所述基底、所述基底台或其两者之间的空间，其中所述基底台包括用于收集液体的阻挡构件，所述阻挡构件环绕所述基底并与所述基底分隔开，且所述阻挡构件位于环绕所述基底外围边缘的排水沟的径向外侧。