光刻系统

摘要：

本发明涉及一种光刻系统。该光刻系统具有至少一个空间光调制器、构造成使曝光区域相对于目标对象沿扫描方向运动的扫描机构、多个存储器(第1个至第N个存储器)、数据处理器和曝光控制器。该曝光区域限定为所述空间光调制器的投射区域。所述多个存储器与通过划分所述曝光区域而限定的多个局部曝光区域对应。所述数据处理器根据曝光定时在每个存储器中连续地写入曝光数据，所述曝光控制器基于所述曝光区域的相对位置控制所述多个光调制元件。所述数据处理器在第1存储器中写入新生成的曝光数据，并使存储在第1个至第N-1个存储器中的曝光数据分别移位至第2个至第N个存储器。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200810144924.3

申请日期：2008-08-07

公开/公告号：CN101364050

公开/公告日：2009-02-11

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:株式会社ORC制作所

发明/设计人:奥山隆志;小林义则

主申请人地址:日本东京

专利代理机构:北京三友知识产权代理有限公司

代理人:党晓林

国别省市代码:日本;JP

权利要求：

1.一种光刻系统，该光刻系统包括：至少一个空间光调制器，该空间光调制器包括多个规则排列的光调制元件；扫描机构，该扫描机构构造成使曝光区域相对于目标对象沿给定扫描方向运动，该曝光区域限定为所述空间光调制器的投射区域；多个存储器，所述存储器构造成与通过划分所述曝光区域而限定的多个局部曝光区域对应，所述多个存储器指定为第1个至第N个存储器；数据处理器，该数据处理器根据曝光定时在每个存储器中连续地写入曝光数据；以及曝光控制器，该曝光控制器基于所述曝光区域的相对位置控制所述多个光调制元件，其中，所述数据处理器在第1存储器中写入新生成的曝光数据，并使存储在第1个至第N-1个存储器中的曝光数据分别移位至第2个至第N个存储器。