光刻装置和器件制造方法

摘要：

例如为了在不同基底的曝光之间方便地移动基底，使用致动的封闭板提供基底、基底台或上述两者作为限制液体的光刻装置中的空间边界的一部分，而不会例如破坏限制液体的密封。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200910005873.0

申请日期：2005-10-18

公开/公告号：CN101487980

公开/公告日：2009-07-22

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:ASML荷兰有限公司

发明/设计人:J·-G·C·范德托尔恩;C·A·胡根达姆

主申请人地址:荷兰维德霍温

专利代理机构:中科专利商标代理有限责任公司

代理人:王新华

国别省市代码:荷兰;NL

权利要求：

1. 一种光刻投影装置，包括：配置成保持基底的基底台；配置成把带图案的辐射光束投影到基底上的投影系统；液体限制结构，所述液体限制结构被配置成把液体限制在空间中，所述空间为投影系统与基底、基底台或上述两者之间的空间，基底、基底台或上述两者配置成形成所述空间的边界的一部分；以及封闭板，该封闭板配置成当未扰动液体、液体限制结构或上述两者而移动时，替代基底、基底台或上述两者构成所述空间的边界的一部分，其中，所述封闭板被构造并设置成用于基底台的力测量系统。