1.2.5英寸×5英寸UT1倍光刻版
实用新型 无权
分类号: G03F1/00 G G03 G03F G03F1 申请日期：2004-09-01申请人：上海光刻电子科技有限公司 陈开盛 粟鹏义
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5.LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图形的形成方法
发明专利 有权
分类号: G03F7/022 G G03 G03F G03F7 申请日期：2004-08-11申请人：东京应化工业株式会社
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6.LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物和抗蚀图的形成方法
发明专利 无权
分类号: G03F7/039 G G03 G03F G03F7 申请日期：2004-05-19申请人：东京应化工业株式会社
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11.一次扫描两个普通曝光区域的曝光方法
发明专利 无权
分类号: G03F7/20 G G03 G03F G03F7 申请日期：2004-12-15申请人：上海华虹（集团）有限公司 上海集成电路研发中心有限公司
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12.一种低照度条件下改进自动曝光的方法
发明专利 有权
分类号: G03B7/091 G G03 G03B G03B7 申请日期：2004-11-17申请人：北京中星微电子有限公司
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14.一种充电脉冲发生器，曝光发生装置，以及充电脉冲输出的方法
发明专利 无权
分类号: G03B7/091 G G03 G03B G03B7 申请日期：2004-11-17申请人：北京中星微电子有限公司
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