LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物和抗蚀图的形成方法

摘要：

本发明提供一种即使在低NA条件下，也可以高清晰度形成抗蚀图的，LCD制造用的抗蚀剂材料。本发明的抗蚀剂材料，是含有(A)由对于23℃的2.38重量％的氢氧化四甲基铵水溶液的碱溶解性在100～400nm/秒范围内的酚醛树脂形成的碱可溶性树脂，(B)通过放射线照射产生酸的化合物以及(C)交联性聚乙烯醚化合物的LCD制造用正型抗蚀剂组合物。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200310101490.6

申请日期：2003-10-21

公开/公告号：CN1497347

公开/公告日：2004-05-19

主分类号：G03F7/039

申请/专利权人:东京应化工业株式会社

发明/设计人:片野彰;馆俊聪;宫城贤

主申请人地址:日本神奈川县

专利代理机构:中科专利商标代理有限责任公司

代理人:李香兰

国别省市代码:日本;JP

权利要求：

1、一种LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物，其特征在于含有下列成分(A)～(C)：(A)由对于23℃的2.38重量％的氢氧化四甲基铵水溶液的碱溶解性在100～400nm/秒范围内的酚醛树脂形成的碱可溶性树脂，(B)通过放射线照射产生酸的化合物，(C)交联性聚乙烯醚化合物。