2.5英寸×5英寸UT1倍光刻版

摘要：

一种用于微细工程领域如集成电路生产的光刻版，适用于Ultra Tech UT 1倍光刻机，其规格为2.5×5英寸。在5×5英寸UT 1倍光刻版中间2.5英寸处设计切割标记，而要用于光刻的图形则分布在由该切割标记所划分成的两个对称区域，两个区域内的图形可以不同。将5×5英寸UT 1倍光刻版按切割标记切割而得到两块2.5×5英寸UT 1倍光刻版。

专利类型：实用新型

申请/专利号：CN02252770.2

申请日期：2002-09-05

公开/公告号：CN2638107

公开/公告日：2004-09-01

主分类号：G03F1/00

申请/专利权人:上海光刻电子科技有限公司%陈开盛%粟鹏义

发明/设计人:陈开盛;粟鹏义;吴进来

主申请人地址:200052 上海市定西路710弄16号鸿申大厦24E座

国别省市代码:上海(31)

权利要求：

1.一种用于微细工程领域适用于UltraTech UT1倍光刻机的光刻版，其规格为5×5英寸，其特征在于光刻版的规格改为2.5×5英寸。