一种光刻投影装置

摘要：

提出一种光刻投影装置，包括：辐射系统，可提供投影光束；支承结构，用来支承图案形成机构，该图案形成机构根据希望的图案使投影光束形成所需要的图案；基片台，用来固定基片；和投影系统，用来将带有图案的光束投射到基片的目标部分；其特征在于还包括至少一个保持结构，其包括至少一个固定带小突起的板的柔性件，带小突起的板用于固定装置的可移动单位体。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200310122072.5

申请日期：2003-12-22

公开/公告号：CN1514307

公开/公告日：2004-07-21

主分类号：G03F7/20

申请/专利权人:ASML荷兰有限公司

发明/设计人:N·J·吉尔森;S·N·L·当德斯;;M·H·A·里德斯

主申请人地址:荷兰维尔德霍芬

专利代理机构:中国专利代理(香港)有限公司

代理人:章社杲

国别省市代码:荷兰;NL

权利要求：

1.一种光刻投影装置，包括：辐射系统，可提供投影光束；支承结构，用来支承图案形成机构，所述图案形成机构根据希望的图案使所述投影光束具有所需要的图案；基片台，用来固定基片；和投影系统，可将带图案的光束投射到基片的目标部分；其特征在于，还包括：至少一个保持结构，其包括至少一个保持带小突起的板的柔性件，所述带小突起的板用于保持所述装置的可移动单位体。