LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图形的形成方法

摘要：

本发明提供一种LCD制造用的抗蚀剂材料，该抗蚀剂材料是LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物，其特征在于，包括(A)碱可溶性树脂，(B)聚苯乙烯换算质均分子量为300-1300的低分子量酚醛清漆树脂和萘醌二叠氮磺酸化合物的、平均酯化率为30-90％的酯化反应生成物，(C)分子量为1000以下的含有酚性羟基的化合物，(D)有机溶剂。根据本发明的抗蚀剂组合物，即使在低NA条件下，也能够以高的析像度形成抗蚀图形，优选线性良好抗蚀剂组合物。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200410002210.0

申请日期：2004-01-15

公开/公告号：CN1519648

公开/公告日：2004-08-11

主分类号：G03F7/022

申请/专利权人:东京应化工业株式会社

发明/设计人:大内康秀;中山一彦;丸山健治;土井宏介

主申请人地址:日本神奈川县

专利代理机构:中科专利商标代理有限责任公司

代理人:李香兰

国别省市代码:日本;JP

权利要求：

1.一种LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物，其特征在于，包括(A)碱可溶性树脂，(B)聚苯乙烯换算质均分子量为300-1300的低分子量酚醛清漆树脂和萘醌二叠氮磺酸化合物的、平均酯化率为30-90％的酯化反应生成物，(C)分子量为1000以下的含有酚性羟基的化合物，(D)有机溶剂。