光刻照明装置

摘要：

本发明公开了一种光刻照明装置，其按光束传播方向依次包括激光器，衍射光学元件，变焦透镜组，旋转三棱镜组，微透镜阵列，聚光镜和掩模，其中，所述微透镜阵列的一侧还设有一振幅型空间光调制器(SLM)。本发明采用振幅型SLM放置在微透镜阵列的光阑面上，作为光源滤波器，调制照明光瞳上的光源分布。SLM的优点是其每个像素对光波振幅的调制可通过寻址电压来进行控制，并且SLM具有可编程控制的特点，可以利用SLM的振幅调制来产生任意的照明光源函数。采用本发明的光刻照明装置可以方便地校正传统、环形、二极和四极照明的光瞳均匀性，提高照明系统的光瞳质量。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200810042596.6

申请日期：2008-09-05

公开/公告号：CN101349871

公开/公告日：2009-01-21

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:上海微电子装备有限公司

发明/设计人:郭 勇

主申请人地址:201203上海市张江高科技园区张东路1525号

专利代理机构:上海思微知识产权代理事务所

代理人:屈 蘅%李时云

国别省市代码:上海;31

权利要求：

1、一种光刻照明装置，按光束传播的方向依次包括：激光器，衍射光学元件，变焦透镜组，旋转三棱镜组，微透镜阵列，聚光镜和掩模，其特征在于，所述微透镜阵列的一侧设有一振幅型空间光调制器。