光刻胶组成物及其图案化方法

摘要：

一种光刻胶组成物，该组成物具有理想的光感度、解析度、残膜率(residual film ratio)及涂布特性等物理性质，且因其具有绝佳的光透射率，而可在一半导体工艺或一平面显示器工艺中，利用波长为248nm(氟化氪)或更短的光源，来形成具有理想的显影轮廓及聚焦深度(Depth ofFocus)的图案，即使该光刻胶组成物应用于一非化学增幅型光刻胶。该光刻胶组成物包括一酚醛型树脂(novolac-based resin)A、一光感剂(photosensitizer)B及一具有低吸光度的低分子物质C，该具有低吸光度的低分子物质在248nm、193nm和157nm的一或多种光源波长时的吸光度低于该酚醛型树脂的吸光度，且该光刻胶组成物是在光源波长为248nm或更短时被使用。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200780029153.7

申请日期：2007-08-02

公开/公告号：CN101501570

公开/公告日：2009-08-05

主分类号：G03F7/004(2006.01)I

申请/专利权人:东友精化股份有限公司

发明/设计人:成始震;李相行;金相泰

主申请人地址:韩国首尔市

专利代理机构:北京中原华和知识产权代理有限责任公司

代理人:寿 宁

国别省市代码:韩国;KR

权利要求：

1、一种光刻胶组成物，其特征在于该组成物包含一酚醛型树脂A、一光感剂B及一具有低吸光度的低分子物质C，其中在光源为248nm、193nm和157nm的一或多种波长时，该具有低吸光度的低分子物质所具有的吸光度低于该酚醛型树脂的吸光度，且该光刻胶组成物可在光源波长为248nm或更短时被使用。