光刻胶图案的修补方法

摘要：

本发明公开了一种光刻胶图案的修补方法，至少包括：形成一材料层于一衬底上；形成一光刻胶图案于该材料层的表面的一第一部分上，其中该光刻胶图案至少包括一缺陷区暴露出该材料层的该表面的一第二部分；以及进行一修补步骤，以形成一光刻胶层设置在该光刻胶图案的该缺陷区中，并覆盖该材料层的该表面的该第二部分。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200810090300.8

申请日期：2008-04-21

公开/公告号：CN101566788

公开/公告日：2009-10-28

主分类号：G03F1/00(2006.01)I

申请/专利权人:东捷科技股份有限公司

发明/设计人:简永杰;江鸿儒

主申请人地址:台湾省台南县新市乡南科五路6号3楼

专利代理机构:北京律诚同业知识产权代理有限公司

代理人:陈 红

国别省市代码:台湾;71

权利要求：

1、一种光刻胶图案的修补方法，其特征在于，至少包括： 形成一材料层于一衬底上； 形成一光刻胶图案于该材料层的表面的一第一部分上，其中该光刻胶图案至少包括一缺陷区暴露出该材料层的该表面的一第二部分；以及 进行一修补步骤，以形成一光刻胶层设置在该光刻胶图案的该缺陷区中，并覆盖该材料层的该表面的该第二部分。