光刻装置和器件制造方法

摘要：

本发明提供了一种光刻投射装置，包括：用于提供辐射投射光束的辐射系统；用于支撑构图部件的支撑结构，所述构图部件用于根据理想的图案对投射光束进行构图；用于保持基底的基底台；用于将带图案的光束投射到基底的靶部上的投射系统；和液体供给系统，所述液体供给系统用于向由所述投射系统的最终元件的表面和所述基底的表面限定的空间提供浸没液体；所述光刻投射装置还包括当所述基底从所述投射系统下移开时，用于保持所述最终元件的所述表面与液体接触的装置。另外提供了一种器件制造方法。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200810213496.5

申请日期：2003-11-11

公开/公告号：CN101349876

公开/公告日：2009-01-21

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:ASML荷兰有限公司

发明/设计人:A·T·A·M·德克森;S·N·L·当德斯;C·A·胡根达姆;J·洛夫;E·R·鲁普斯特拉;J·J·S·M·梅坦斯;J·C·H·穆肯斯;T·F·森格斯;A·斯特拉艾杰;B·斯特里夫克

主申请人地址:荷兰维尔德霍芬

专利代理机构:中科专利商标代理有限责任公司

代理人:王波波

国别省市代码:荷兰;NL

权利要求：

1.一种光刻投射装置，包括：用于提供辐射投射光束的辐射系统；用于支撑构图部件的支撑结构，所述构图部件用于根据理想的图案对投射光束进行构图；用于保持基底的基底台；用于将带图案的光束投射到基底的靶部上的投射系统；和液体供给系统，所述液体供给系统用于向由所述投射系统的最终元件的表面和所述基底的表面限定的空间提供浸没液体；其特征在于：所述光刻投射装置还包括当所述基底从所述投射系统下移开时，用于保持所述最终元件的所述表面与液体接触的装置。