581.光刻装置和器件制造方法
发明专利 有权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-11-25申请人：ASML荷兰有限公司
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582.光刻装置和器件制造方法
发明专利 有权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-11-11申请人：ASML荷兰有限公司
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583.光刻装置和器件制造方法
发明专利 无权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-12-30申请人：ASML荷兰有限公司
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584.光刻装置和器件制造方法
发明专利 有权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-12-16申请人：ASML荷兰有限公司
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585.光刻装置的浸没损坏控制
发明专利 有权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-05-06申请人：ASML荷兰有限公司
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586.光刻设备
发明专利 无权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-02-04申请人：ASML荷兰有限公司
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588.光刻设备、复合材料以及制造方法
发明专利 无权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-12-16申请人：ASML荷兰有限公司
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589.光刻设备、工作台系统和工作台控制方法
发明专利 有权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-06-24申请人：ASML荷兰有限公司
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590.光刻设备、投影组件、组合装置以及主动阻尼方法
发明专利 有权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-06-10申请人：ASML荷兰有限公司
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591.光刻设备、衬底台和用于释放晶片的方法
发明专利 无权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-10-21申请人：ASML荷兰有限公司
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592.光刻设备及器件制造方法
发明专利 有权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-12-30申请人：ASML荷兰有限公司
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593.光刻设备及器件制造方法
发明专利 有权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-12-09申请人：ASML荷兰有限公司
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594.光刻设备和器件制造方法
发明专利 无权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-06-10申请人：ASML荷兰有限公司
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595.光刻设备和器件制造方法
发明专利 无权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-09-02申请人：ASML荷兰有限公司 卡尔蔡斯SMT股份公司
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596.光刻设备和器件制造方法
发明专利 有权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-07-15申请人：ASML荷兰有限公司
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597.光刻设备和器件制造方法
发明专利 无权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-02-18申请人：ASML荷兰有限公司
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598.光刻设备和器件制造方法
发明专利 无权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-06-03申请人：ASML荷兰有限公司
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599.光刻设备和器件制造方法
发明专利 无权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-10-14申请人：ASML控股股份有限公司 ASML荷兰有限公司
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600.光刻设备和器件制造方法
发明专利 无权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-12-09申请人：ASML荷兰有限公司
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