光刻设备和器件制造方法

摘要：

本发明公开了一种光刻设备和一种器件制造方法。所述光刻设备包括配置用于将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上的投影系统。所述设备还包括阻挡构件，所述阻挡构件在使用中包围在投影系统和衬底之间的空隙，以部分地与投影系统限定液体的贮液器。面对投影系统的一部分的阻挡构件的径向外表面和面对阻挡构件的投影系统的所述部分的径向外表面中的每个具有疏液外表面。阻挡构件的疏液外表面和/或投影系统的所述部分的疏液外表面具有内边缘，所述内边缘部分地限定该贮液器。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200810145180.7

申请日期：2008-08-04

公开/公告号：CN101482701

公开/公告日：2009-07-15

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:ASML荷兰有限公司

发明/设计人:M·贝克尔斯;M·A·范德柯克霍夫;S·兰德柯尔;W·J·P·M·马阿斯;J·P·J·布鲁依杰斯腾斯;I·A·J·托马斯;F·J·J·詹森;B·M·范奥尔勒

主申请人地址:荷兰维德霍温

专利代理机构:中科专利商标代理有限责任公司

代理人:王波波

国别省市代码:荷兰;NL

权利要求：

1. 一种光刻设备，包括：投影系统，所述投影系统配置用于将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上；以及阻挡构件，所述阻挡构件在使用中包围在投影系统和衬底之间的空隙，以部分地与投影系统一起限定液体的贮液器，其中，面对投影系统的一部分的阻挡构件的径向外表面和面对阻挡构件的投影系统的所述部分的径向外表面均为疏液外表面，阻挡构件的疏液外表面和/或投影系统的所述部分的疏液外表面具有内边缘，所述内边缘部分地限定贮液器。