光刻设备及器件制造方法

摘要：

本发明公开了一种光刻设备及器件制造方法。所述光刻设备包括台、遮蔽构件、流体处理结构和流体抽取系统。所述流体处理结构可以被配置用于将液体供给并限制在投影系统和(i)衬底、或(ii)所述台、或(iii)遮蔽构件的表面或(iv)从(i)至(iii)选择的组合之间。所述遮蔽构件的表面可临接所述台的表面和可与所述台的表面共平面。所述遮蔽构件和所述台的表面可被间隙间隔开。所述流体抽取系统可被配置用于从所述间隙移除液体。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200910159503.2

申请日期：2009-05-31

公开/公告号：CN101598905

公开/公告日：2009-12-09

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:ASML荷兰有限公司

发明/设计人:C·G·N·H·M·科林;N·坦凯特;N·R·凯姆波;M·K·斯达文哥;E·H·E·C·奥姆梅伦;M·瑞鹏;O·V·伊利西瓦;W·M·冈特;M·C·范德维肯

主申请人地址:荷兰维德霍温

专利代理机构:中科专利商标代理有限责任公司

代理人:王新华

国别省市代码:荷兰;NL

权利要求：

1.一种浸没式光刻设备，包括：衬底台，配置用于支撑衬底；具有顶表面的遮蔽构件，其中，在使用中，所述顶表面大致与所述衬底台的表面共平面，且所述遮蔽构件和衬底台的表面被间隙间隔开；流体处理结构，配置以将液体供给和限制在投影系统和(i)所述衬底、或(ii)所述衬底台、或(iii)所述遮蔽构件的表面、或(iv)从(i)-(iii)中选择的任何组合之间；和流体抽取系统，配置用于通过在所述遮蔽构件和/或衬底台的侧壁表面中的抽取开口从所述间隙移除液体。