光刻设备

摘要：

本发明公开了一种浸没式光刻设备，其包括被配置用于供给流体的流体供给系统，所述流体供给系统具有腔，所述腔具有在第一侧壁中的多个进口孔和在第二侧壁中的多个出口孔，所述第一侧壁面对所述第二侧壁，其中，所述进口孔将进入所述腔的流体沿朝在所述多个出口孔之间的第二侧壁的区域的方向引导。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200910134273.4

申请日期：2009-04-16

公开/公告号：CN101561639

公开/公告日：2009-10-21

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:ASML荷兰有限公司

发明/设计人:C·J·G·范德敦根;N·F·寇普拉斯;M·H·A·里恩德尔;P·M·M·里伯艾格特斯;J·C·H·穆肯斯;E·H·E·C·奥姆梅伦;M·贝克尔斯;R·莫尔曼;C·D·格乌斯塔;D·M·H·菲利普斯;R·J·P·沃黑斯;P·马尔德;E·范维利特

主申请人地址:荷兰维德霍温

专利代理机构:中科专利商标代理有限责任公司

代理人:王新华

国别省市代码:荷兰;NL

权利要求：

1.一种浸没式光刻设备，包括配置用于供给流体的流体处理系统，所述流体处理系统包括腔，所述腔具有在第一侧壁中的多个进口孔和在第二侧壁中的多个出口孔，所述第一侧壁面对所述第二侧壁，其中，所述进口孔被设置以将进入所述腔的流体沿朝向所述多个出口孔之间的所述第二侧壁的区域的方向引导。