光刻设备、复合材料以及制造方法

摘要：

本发明公开了一种光刻设备、复合材料以及制造方法，所述光刻设备包括：照射系统，构建用于调节辐射束；支撑件，构造用于支撑图案形成装置。所述图案形成装置能够将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束以便形成图案化的辐射束。所述光刻设备进一步包括：衬底台，构建用于保持衬底；和投影系统，构建用于将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上。所述光刻设备可以设置有复合材料，其中，碳纤维层和钛层设置在所述复合物中。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200910142675.9

申请日期：2009-06-05

公开/公告号：CN101604123

公开/公告日：2009-12-16

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:ASML荷兰有限公司

发明/设计人:M·斯考尔滕;J·克莱恩;S·C·Q·利布雷尔;M·P·乌宾克

主申请人地址:荷兰维德霍温

专利代理机构:中科专利商标代理有限责任公司

代理人:王新华

国别省市代码:荷兰;NL

权利要求：

1.一种光刻设备，包括：支撑件，构造用于支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束，以便形成图案化的辐射束；衬底台，构造用于保持衬底；和投影系统，配置用于将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上，其中，所述光刻设备的构件包括复合材料，所述复合材料包括碳纤维层和钛层。