光刻设备、工作台系统和工作台控制方法

摘要：

一种光刻设备包括工作台系统和工作台控制系统，所述工作台系统包括可移动工作台，所述工作台控制系统用于响应于设定点信号控制该工作台的位置。所述工作台控制系统包括反馈控制环和加速度前馈(acceleration feedforward)，所述反馈控制环用于以反馈方式控制所述位置，所述加速度前馈用于产生向前传到所述反馈控制环的前馈信号。所述前馈信号从所述设定点信号导出。所述工作台控制系统被安排为将所述位置设定点信号修改为修改的位置设定点信号，所述反馈控制环的所述设定点输入安排为接收所述修改的位置设定点信号，所述修改的位置设定点信号安排为考虑所述工作台的非刚体行为。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200810185622.0

申请日期：2008-12-17

公开/公告号：CN101464634

公开/公告日：2009-06-24

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:ASML荷兰有限公司

发明/设计人:毛里求斯·G·E·斯克乃德斯;威廉姆斯·F·J·西蒙斯

主申请人地址:荷兰维德霍温

专利代理机构:中科专利商标代理有限责任公司

代理人:王波波

国别省市代码:荷兰;NL

权利要求：

1. 一种光刻设备，包括：照明系统，该照明系统配置为调节辐射束；图案化装置支撑，该图案化装置支撑配置为支撑图案化装置，所述图案化装置能够引入在其横截面具有图案的所述辐射束，以形成图案化的辐射束；衬底支撑，该衬底支撑配置为保持衬底；投影系统，该投影系统配置为将图案化的辐射束投影到所述衬底的目标部分上，及工作台控制系统，该工作台控制系统配置为响应于位置设定点信号控制所述支撑中的一个支撑的位置，所述工作台控制系统包括：反馈控制环，该反馈控制环配置为以反馈方式控制所述位置，所述反馈控制环具有设定点输入，及加速度前馈，该加速度前馈配置为产生向前传到所述反馈控制环的前馈信号，所述前馈信号从所述位置设定点信号导出，其中所述工作台控制系统被安排为将所述位置设定点信号修改为修改的位置设定点信号，所述反馈控制环的所述设定点输入安排为接收所述修改的位置设定点信号，所述修改的位置设定点信号安排为考虑所述支撑中的所述一个支撑的非刚体特性。