光刻设备和器件制造方法

摘要：

本发明公开了一种浸没式光刻设备以及一种器件制造方法。所述浸没式光刻设备包括流体限制系统，所述流体限制系统配置用于将流体限制到在投影系统和衬底之间的空隙。流体限制系统包括用于供给流体的流体入口，所述流体入口连接到入口端口和出口端口。所述浸没式光刻设备和包括流体供给系统，所述流体供给系统配置用于通过改变被提供给入口端口的流体的流量和从出口端口去除的流体的流量来控制经过流体入口的流体的流动。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200810215061.4

申请日期：2008-09-09

公开/公告号：CN101446776

公开/公告日：2009-06-03

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:ASML荷兰有限公司

发明/设计人:P·P·J·伯克文斯;R·F·德格拉夫;P·M·M·里伯艾格特斯;R·范德汉姆;W·F·J·西蒙斯;D·J·M·迪艾克斯;F·J·J·杰森;P·W·斯考蒂斯;G-J·G·J·T·布兰德斯;K·斯蒂芬斯;H·H·A·兰姆彭斯;M·A·K·范力洛普;C·德麦特森艾尔;M·A·C·马兰达;P·J·W·斯普鲁伊藤伯格;J·J·A-M·沃斯特拉艾斯

主申请人地址:荷兰维德霍温

专利代理机构:中科专利商标代理有限责任公司

代理人:王波波

国别省市代码:荷兰;NL

权利要求：

1. 一种浸没式光刻设备，所述浸没式光刻设备包括：流体限制系统，所述流体限制系统配置用于将流体限制到投影系统和衬底之间的空隙中，所述流体限制系统包括配置用于供给流体的流体入口，所述流体入口连接到入口端口和出口端口；以及流体供给系统，所述流体供给系统配置用于通过改变提供到所述入口端口的流体的流量和从所述出口端口去除的流体的流量来控制经过所述流体入口的流体流。