光刻装置和器件制造方法

摘要：

公开了一种光刻装置，其包括配置成使用液体至少部分填充投影系统和基底之间的空间的液体供给系统，配置成去除液体和气体混合物的出口，所述液体和气体混合物流过液体供给系统的液体限制结构和基底之间的间隙，配置成通过所述出口排出混合物的排空系统，该排空系统包括布置成把混合物中的液体和气体分开的分离槽和分离槽压力控制器，该分离槽压力控制与分离槽的非液体填充区相连，并配置成使非液体填充区保持稳定的压力。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200910149213.X

申请日期：2005-10-18

公开/公告号：CN101576719

公开/公告日：2009-11-11

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:ASML荷兰有限公司

发明/设计人:J·J·S·M·梅坦斯;S·N·L·多德斯;R·F·德格拉夫;C·A·胡根达姆;A·J·范德内特;F·J·H·M·特尼斯森;P·A·J·廷内曼斯;M·C·M·维哈根;J·J·L·H·维斯帕;E·A·M·范戈佩

主申请人地址:荷兰维德霍温

专利代理机构:中科专利商标代理有限责任公司

代理人:王波波

国别省市代码:荷兰;NL

权利要求：

1.一种光刻投影装置，包括：配置成保持构图部件的支座，该构图部件配置成给辐射光束在其截面赋予图案，以便形成带图案的辐射光束；配置成保持基底的基底台；配置成把带图案的辐射光束投影到基底靶部上的投影系统；配置成使用液体至少部分填充投影系统和基底之间的空间的液体供给系统，该液体供给系统包括配置成把液体至少部分限制在所述空间中的液体限制结构；配置成去除液体和气体混合物的出口，所述液体和气体混合物通过液体限制结构和基底之间的间隙；以及配置成通过所述出口排出混合物的排空系统，该排空系统包括两相兼容泵和布置在所述间隙和所述两相兼容泵之间的液体/气体均化器，所述液体/气体均化器布置成把均匀的液体和气体混合物提供给两相兼容泵。