光刻设备

摘要：

本发明公开了一种用于浸没式光刻的阻挡构件(10)。所述阻挡构件包括位于底表面上的抽取器组件(70)，所述抽取器组件(70)设置成面对衬底(W)。所述抽取器组件包括板(200)，所述板(200)设置成将位于液体去除装置和所述衬底之间的空隙分成两部分，使得弯月面(310)形成于位于液体去除装置和所述板之间的上通道(220)中，并且使得弯月面(320)形成于位于所述板下面的所述板和衬底之间的下通道(230)中。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200680051075.6

申请日期：2006-11-16

公开/公告号：CN101361024

公开/公告日：2009-02-04

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:ASML荷兰有限公司

发明/设计人:J·J·奥腾斯;N·腾凯特;N·R·肯佩;M·H·A·李德斯;J·P·M·斯穆勒斯;M·巴克斯;S·舒勒普沃夫;M·里庞

主申请人地址:荷兰维德霍温

专利代理机构:中科专利商标代理有限责任公司

代理人:王波波

国别省市代码:荷兰;NL

权利要求：

1.一种光刻设备，包括：阻挡构件，所述阻挡构件设置用于在投影系统和衬底之间围成空隙并且至少部分地将液体限制在所述空隙中，所述阻挡构件包括：抽取器，所述抽取器用于将液体从所述阻挡构件和所述衬底之间去除，以及板，所述板设置在所述抽取器和所述衬底之间，以使得对所述空隙开放的第一通道形成于所述抽取器和所述板之间，并且使对所述空隙开放的第二径向延伸通道形成于所述板和所述衬底之间。