光刻设备、衬底台和用于释放晶片的方法

摘要：

一种光刻设备包括：照射系统，构造且设置以调节辐射束；和支撑件，构造且设置以支撑图案形成装置。所述图案形成装置能够将图案在其横截面上赋予辐射束以形成图案化的辐射束。所述设备还包括：衬底台，构造且设置以保持衬底；和投影系统，构造且设置以将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上。所述衬底台包括：多个突出部，构造且设置以支撑衬底的底部截面的对应部分；和致动器，构造且设置以在衬底中激发冲击波。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200780047176.0

申请日期：2007-12-18

公开/公告号：CN101563653

公开/公告日：2009-10-21

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:ASML荷兰有限公司

发明/设计人:A·J·布里克;D·J·P·A·弗兰肯;J·H·G·弗兰森;J·T·G·M·范德万;M·普特;T·P·A·德维特

主申请人地址:荷兰维德霍温

专利代理机构:中科专利商标代理有限责任公司

代理人:王新华

国别省市代码:荷兰;NL

权利要求：

1.一种光刻设备，包括：照射系统，构造且设置以调节辐射束；支撑件，构造且设置以支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束以形成图案化的辐射束；衬底台，构造且设置以保持衬底；和投影系统，构造且设置以将所述图案化的辐射束投影到所述衬底的目标部分上，所述衬底台包括：多个突出部和致动器，所述多个突出部构造且设置以支撑衬底的底部截面的对应部分，所述致动器构造且设置以在衬底中激发冲击波。