光刻设备和器件制造方法

摘要：

本发明公开了一种光刻设备和器件制造方法。具体地，本发明公开在浸没光刻设备中应用电浸湿控制浸没液体的状态。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200810179765.0

申请日期：2008-12-03

公开/公告号：CN101452220

公开/公告日：2009-06-10

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:ASML荷兰有限公司

发明/设计人:S·N·L·冬德尔斯;N·顿凯特;L·H·J·斯迪文斯;R·范德汉姆;M·瑞蓬

主申请人地址:荷兰维德霍温

专利代理机构:中科专利商标代理有限责任公司

代理人:王波波

国别省市代码:荷兰;NL

权利要求：

1. 一种浸没光刻设备，包括：表面，所述表面至少周期地接触浸没液体；和主动浸没液体控制系统，包括：第一电极，其电连接到将在所述表面上受控制的浸没液体，第二电极，其与所述表面结合并与位于所述表面上的浸没液体电隔离，和电压控制器，其构造成在第一和第二电极之间提供受控的电压差。