光刻装置和器件制造方法

摘要：

本发明公开了一种光刻装置和器件制造方法。其中供液系统可在投影系统的最后一个元件和基底之间提供浸液。提供一个主动干燥站，用于在浸没基底之后从基底W或其它物体主动去除浸液。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200910148882.5

申请日期：2005-05-17

公开/公告号：CN101587303

公开/公告日：2009-11-25

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:ASML荷兰有限公司

发明/设计人:B·斯特里克;S·N·L·多德斯;E·R·鲁普斯特拉;J·C·H·穆肯斯

主申请人地址:荷兰维尔德霍芬

专利代理机构:中科专利商标代理有限责任公司

代理人:王波波

国别省市代码:荷兰;NL

权利要求：

1.一种主动干燥站，用于主动地从浸没式光刻投影设备中的物体去除残留浸液，所述主动干燥站包括：气体流动部件，所述气体流动部件用于在所述物体的表面上形成气流，其中所述气体流动部件包括气体入口和气体出口，所述气体入口用于将气体提供到所述物体的所述表面上的两个位置处，所述气体出口位于所述气体入口之间，用于将气体从所述两个位置之间的一位置去除。