光刻设备、投影组件、组合装置以及主动阻尼方法

摘要：

本发明公开了一种光刻设备、投影组件、组合装置以及主动阻尼方法。该光刻设备包括：照射系统，配置用于调节辐射束；支撑件，用以支撑图案形成装置；衬底台，构造用于保持衬底；以及投影系统，配置成将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上。该光刻设备进一步包括主动阻尼系统，用以阻尼投影系统的至少一部分的振动。该主动阻尼系统包括传感器和致动器的组合装置，该传感器用于测量投影系统的位置量，而该致动器依赖于该传感器所提供的信号对该投影系统施加力。该主动阻尼系统连接到阻尼块，该阻尼块连接到该投影系统。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200810189335.7

申请日期：2008-10-06

公开/公告号：CN101452222

公开/公告日：2009-06-10

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:ASML荷兰有限公司

发明/设计人:M·W·M·范德威吉斯特;E·R·鲁普斯特卓;C·A·L·德霍恩

主申请人地址:荷兰维德霍温

专利代理机构:中科专利商标代理有限责任公司

代理人:王文生

国别省市代码:荷兰;NL

权利要求：

1. 一种光刻设备，包括：照射系统，配置用于调节辐射束；支撑件，用以支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束，以形成图案化的辐射束；衬底台，构造用于保持衬底；以及投影系统，配置成将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上；所述光刻设备进一步包括主动阻尼系统，用以抑制投影系统的至少一部分的振动，所述主动阻尼系统包括传感器和致动器的组合装置，所述传感器用于测量投影系统的位置量，而所述致动器基于所述传感器所提供的信号对所述投影系统施加力；所述主动阻尼系统连接到阻尼块，所述阻尼块连接到所述投影系统。