光刻装置和器件制造方法

摘要：

一种光刻投影装置，其中液体供给系统向投影系统(PL)的最后元件和基底W间的空隙(2)提供液体。该液体供给系统包括密封构件(4)。采用从密封构件入口(6)到密封构件出口(8)的液流形成液体密封。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200910140165.8

申请日期：2004-06-25

公开/公告号：CN101604122

公开/公告日：2009-12-16

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:ASML荷兰有限公司

发明/设计人:H·H·M·科西;S·N·L·唐德斯;C·A·胡根达姆;A·Y·科勒斯辰科;E·R·鲁普斯特拉;H·范桑坦

主申请人地址:荷兰维尔德霍芬

专利代理机构:中科专利商标代理有限责任公司

代理人:王波波

国别省市代码:荷兰;NL

权利要求：

1.一种光刻装置，包括：用于提供辐射投影光束的辐射系统；用于支撑构图装置的支撑结构，所述构图装置用于根据所需的图案对投影光束进行构图；用于保持基底的基底台；用于将带图案的光束投影到基底的靶部上的投影系统；用于在所述投影系统最后元件和所述基底之间的空隙提供液体的液体供给系统，所述液体供给系统包括：沿所述投影系统的最后元件与所述基底之间的空隙的边界的至少一部分延伸的密封构件；和用液流在所述密封构件和基底表面间形成密封的液体密封部件。