光刻设备和器件制造方法

摘要：

本发明公开了通过先或者后曝光衬底上的一个或多个边缘器件而减少衬底在主光刻设备内花费的曝光时间的光刻设备和器件制造方法。由于边缘器件最终不会形成有用装置，所以所述边缘器件可以采用第一光刻装置进行曝光，所述第一光刻装置具有比用于曝光一个或多个由所述衬底生成的其它完整器件的分辨率低的分辨率。因此，对边缘器件的先或者后曝光可以采用更低复杂度的以及成本更低的光刻装置进行。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200810145952.7

申请日期：2008-08-14

公开/公告号：CN101369102

公开/公告日：2009-02-18

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:ASML荷兰有限公司

发明/设计人:朱德克斯·玛丽·多米尼克斯·斯多尔德瑞杰;埃瑞克·罗洛夫·鲁普斯卓;简·伯纳德·普莱彻尔墨斯·范斯库特;蒂德瑞克·简·马阿斯

主申请人地址:荷兰维德霍温

专利代理机构:中科专利商标代理有限责任公司

代理人:王文生

国别省市代码:荷兰;NL

权利要求：

1.一种光刻设备，包括：第一光刻装置，设置用于将第一图案投影到衬底上；以及第二光刻装置，设置用于将第二图案投影到所述衬底上，其中所述第一光刻装置和第二光刻装置包含在同一壳体内。