光刻设备和器件制造方法

摘要：

本发明公开了一种同时地将两个图案形成装置曝光到衬底上的光刻设备和器件制造方法。在实施例中，光刻设备包括用于接收和调节脉冲辐射束的多个照射系统；配置在脉冲辐射束源和照射系统之间用于交替地将辐射束脉冲引导到各个照射系统的束引导装置；用于保持多个图案形成装置的支撑台，每个图案形成装置能够将图案在其横截面上赋予到各自经调节的辐射束上以形成多个图案化的辐射束；和构造用于将多个图案化的辐射束同时地投影到衬底的目标部分上的投影系统。在实施例中，衬底用相变材料覆盖。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200910132571.X

申请日期：2009-04-07

公开/公告号：CN101556438

公开/公告日：2009-10-14

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:ASML控股股份有限公司%ASML荷兰有限公司

发明/设计人:哈利·西维尔;约瑟夫·帕卓斯·亨瑞克瑞·本叔普

主申请人地址:荷兰维德霍温

专利代理机构:中科专利商标代理有限责任公司

代理人:王新华

国别省市代码:荷兰;NL

权利要求：

1.一种光刻设备，其包括：多个照射系统，所述多个照射系统构造用于接收和调节脉冲辐射束；束引导装置，所述束引导装置配置在脉冲辐射束的源和所述照射系统之间，所述束引导装置构造和配置用于交替地将所述辐射束的脉冲引导到所述各个照射系统；支撑台，所述支撑台构造用于保持与特定图案相关的多个图案形成装置，每个所述图案形成装置能够将图案在其横截面上赋予到各自经调节的辐射束上，以形成各自的图案化辐射束；衬底台，所述衬底台用于保持衬底；和投影系统，所述投影系统构造用于将所述各个图案化辐射束中的每一个同时地投影到所述衬底的目标部分上，以在所述衬底上获得所述特定图案。