542.光刻掩模版特征线宽均一性预补偿技术
发明专利 无权
分类号: G03F1/14(2006.01)I G G03 G03F G03F1 申请日期：2009-06-24申请人：上海光刻电子科技有限公司 粟鹏义
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543.光刻方法
发明专利 无权
分类号: G03F7/00(2006.01)I G G03 G03F G03F7 G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-01-14申请人：上海宏力半导体制造有限公司
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544.光刻方法及掩模装置
发明专利 无权
分类号: G03F7/14(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-03-11申请人：日立环球储存科技荷兰有限公司
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545.光刻方法和设备
发明专利 无权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-06-24申请人：ASML控股股份有限公司 ASML荷兰有限公司
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546.光刻显影的方法
发明专利 无权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-06-03申请人：上海华虹NEC电子有限公司
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547.光刻曝光装置、系统和光刻图形化方法
发明专利 有权
分类号: G03F7/20(2006.01) G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-01-21申请人：台湾积体电路制造股份有限公司
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548.光刻机工件台平衡定位系统
发明专利 有权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-11-04申请人：上海微电子装备有限公司
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549.光刻机工件台移动调整装置及方法
发明专利 有权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-08-19申请人：上海微电子装备有限公司 上海微高精密机械工程有限公司
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550.光刻机扫描曝光方法
发明专利 有权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-07-22申请人：上海微电子装备有限公司
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551.光刻机扫描曝光系统及其扫描曝光方法
发明专利 有权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-07-15申请人：上海微电子装备有限公司
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552.光刻机投影物镜波像差测量装置及方法
发明专利 有权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-06-24申请人：上海微电子装备有限公司
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553.光刻机投影物镜温度控制方法
发明专利 有权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-10-07申请人：上海微电子装备有限公司 华中科技大学
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554.光刻机投影物镜的温度控制装置
发明专利 有权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-12-23申请人：上海微电子装备有限公司
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555.光刻机控制系统
发明专利 无权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-11-18申请人：上海微电子装备有限公司
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556.光刻机掩模预对准系统
发明专利 有权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-04-08申请人：上海微电子装备有限公司
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557.光刻机曝光强度与均匀度的管理方法
发明专利 无权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-12-23申请人：和舰科技（苏州）有限公司
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558.光刻机曝光系统
实用新型 无权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-02-11申请人：芯硕半导体(中国)有限公司
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559.光刻机硅片台移动装置及采用该移动装置的光刻机
发明专利 有权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-12-23申请人：上海微电子装备有限公司
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560.光刻机硅片对准信号的处理方法
发明专利 有权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2009-12-30申请人：上海微电子装备有限公司
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