光刻机投影物镜波像差测量装置及方法

摘要：

本发明提出一种光刻机投影物镜波像差测量装置及方法。光刻机投影物镜波像差测量装置包括光源、照明系统、第一方向上的第一狭缝标记、第二方向上的第二狭缝标记、硅片、工件台、光学成像系统、波像差传感器系统以及干涉仪。本发明测试时间短、精度高，且利用光刻机曝光光源即可完成投影物镜波像差的在线检测。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200810204975.0

申请日期：2008-12-30

公开/公告号：CN101464637

公开/公告日：2009-06-24

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:上海微电子装备有限公司

发明/设计人:李术新;王 帆;马明英

主申请人地址:201203上海市张江高科技园区张东路1525号

专利代理机构:上海思微知识产权代理事务所

代理人:屈 蘅%李时云

国别省市代码:上海;31

权利要求：

1. 一种光刻机投影物镜波像差测量装置，其特征在于，包括：光源，产生光束；照明系统，调整上述光束，产生第一方向上的第一照明光束或第二方向上的第二照明光束，且上述第一方向和上述第二方向垂直；上述第一方向上的第一狭缝标记；上述第二方向上的第二狭缝标记；上述第一照明光束透过上述第一狭缝标记得到第一光束，上述第二照明光束透过上述第二狭缝标记得到第二光束；硅片；工件台，承载并定位上述硅片；光学成像系统，包括投影物镜，上述第一光束通过光学成像系统曝光成像到上述硅片形成第一影像，上述第二方向光束通过光学成像系统曝光成像到上述硅片形成第二影像；波像差传感器系统，位于上述工件台上，接收上述第一影像和上述第二影像，测量投影物镜上述第一方向的第一波像差和上述第二方向的第二波像差；以及干涉仪，定位上述工件台，电性连接上述波像差传感器系统，根据上述第一波像差和上述第二波像差计算上述投影物镜的最终波像差。