光刻机工件台平衡定位系统

摘要：

本发明提出一种光刻机工件台平衡定位系统，本发明包括光刻机框架、底座、第一补偿模块、第一平衡质量块、两个第二补偿模块、第二平衡质量块、两个第二电机定子、两个第二电机动子、第一电机定子，以及至少一个放置于底座侧边的力矩消除器，本发明通过力矩消除器消除曝光台在加速时产生的反作用力矩，大幅度降低工件台系统在携带负载加速时对底座产生的冲击力。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200910052810.0

申请日期：2009-06-09

公开/公告号：CN101571675

公开/公告日：2009-11-04

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:上海微电子装备有限公司

发明/设计人:江旭初;齐芊枫;郑椰琴

主申请人地址:201203上海市张江高科技园区张东路1525号

专利代理机构:上海思微知识产权代理事务所

代理人:屈 蘅%李时云

国别省市代码:上海;31

权利要求：

1.一种光刻机工件台平衡定位系统，包括：光刻机框架；第一平衡质量块，通过气浮轴承和所述光刻机框架相连；其特征在于所述平衡定位系统还包括至少一个力矩消除器，所述力矩消除器都位于所述底座的侧边上，所述力矩消除器包括：力矩消除器底座，和所述第一平衡质量块刚性相连；力矩消除器电机动子，和所述力矩消除器底座刚性连接；力矩消除器平衡质量块，通过垂向气浮轴承和侧向气浮轴承和所述力矩消除器底座相连。