光刻机控制系统

摘要：

本发明涉及一种光刻机控制系统，包括多个分控制系统，每一分控制系统均包括用于控制所述分控制系统的中央处理器；多个从控制板，每一从控制板连接一所述分控制系统的中央处理器；一主控制板，通过开放式控制总线与所述多个从控制板连接；总控制系统，通过所述主控制板和所述从控制板控制所述多个分控制系统；所述光刻机控制系统调整与所述主控制板连接的从控制板的数量，从而调整所述光刻机控制系统的分控制系统的数量。本发明的光刻机控制系统结构简单，具有较好的兼容性和扩展性。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200910053599.4

申请日期：2009-06-23

公开/公告号：CN101581886

公开/公告日：2009-11-18

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:上海微电子装备有限公司

发明/设计人:霍志军;周 权;潘菊凤;陈建民

主申请人地址:201203上海市张江张东路1525号

专利代理机构:上海智信专利代理有限公司

代理人:王 洁

国别省市代码:上海;31

权利要求：

1.一种光刻机控制系统，包括：多个分控制系统，每一分控制系统均包括一用于控制所述分控制系统的中央处理器，其特征在于，该光刻机控制系统还包括：多个从控制板，每一从控制板连接一所述分控制系统的中央处理器；一主控制板，通过开放式控制总线与所述多个从控制板连接；总控制系统，通过所述主控制板和所述从控制板控制所述多个分控制系统；所述光刻机控制系统通过调整与所述主控制板连接的从控制板的数量，调整所述光刻机控制系统的分控制系统的数量。