光刻机曝光强度与均匀度的管理方法
万方数据知识服务平台
应用市场
我的应用
会员HOT
万方专利
×

点击收藏,不怕下次找不到~

@万方数据
会员HOT

专利专题

光刻机曝光强度与均匀度的管理方法

引用
本发明公开了一种光刻机曝光强度与均匀度的管理方法,基于EXCELVBA开发数据录入界面,通过编写应用程序并结合EXCEL作为数据库,来对监测数据进行采集、加工、分析与处理,计算出各机台的曝光强度与均匀度,并根据当前曝光强度进一步分析,预估机台超出管制规格的日期、向外界设备人员提供多种形式的监测数据以及决策信息。其中,管理方法涉及光刻机曝光强度及均匀度的衰减预判管理、历史状态及长期变化趋势跟踪、当前所有异常机台完整信息的输出以及任意机台最新监测数据的输出、查询。将本发明的设计思想予以推广应用,提高了光刻机台的自动化管理效率,减少了人力资源的浪费,同时提高了该制程段的作业效率及产品良率。

发明专利

CN200810122776.5

2008-06-18

CN101609258

2009-12-23

G03F7/20(2006.01)I

和舰科技(苏州)有限公司

解纯钢;陈兴盖

215025江苏省苏州市工业园区星华街333号

南京苏科专利代理有限责任公司

陈忠辉%姚姣阳

江苏;32

1.光刻机曝光强度与均匀度的管理方法,其特征在于:基于EXCELVBA开发数据录入界面,通过编写应用程序并结合EXCEL作为数据库,来对光刻机的监测数据进行采集、加工、分析与处理,计算出各机台的曝光强度与均匀度,并根据当前曝光强度进一步分析,预估机台超出管制规格的日期、向外界设备人员提供加工后多种形式的监测数据以及相关的决策信息,采用如下步骤:I.结合基于EXCEL VBA开发的数据录入界面,将机台运行状态的参数通过I/O口接入控制器件中,并最终导入到EXCEL数据库内;II.控制器件中设计应用程序,抓取必要的记录数据进行加工处理分析,得出各机台当前工况信息、预估信息及决策信息的结果;III.将这些信息结果选择性地输出给设备人员参考,并提醒多种可能的改善动作。
相关文献
评论
法律状态详情>>
2012-06-27授权
2009-12-23公开
2010-02-17实质审查的生效
2017-08-04专利权的终止
相关作者
相关机构