光刻机掩模预对准系统

摘要：

本发明提供一种光刻机掩模预对准系统。本发明所公开的光刻机掩模预对准系统包括：位于掩模台的第一标记和第二标记；第一光路系统，包括第一照明模块、第一成像模块和第一探测模块；第二光路系统，包括第二照明模块、第二成像模块和第二探测模块；所述第一照明模块包括第一光源单元和第一准直单元，所述第二照明模块包括第二光源单元和第二准直单元，其中，所述第一光路系统与所述第二光路系统的结构相同。本发明具有对准精度高，测量范围大的特点，可实现掩模和掩模夹具与物镜工件台的预对准，使掩模进入到精密对准系统的捕获范围内以提高精密对准的效率，并使掩模位于物镜扫描范围内。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200810202699.4

申请日期：2008-11-13

公开/公告号：CN101403865

公开/公告日：2009-04-08

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:上海微电子装备有限公司

发明/设计人:朱立荣;储兆祥

主申请人地址:201203上海市张江高科技园区张东路1525号

专利代理机构:上海思微知识产权代理事务所

代理人:屈 蘅%李时云

国别省市代码:上海;31

权利要求：

1、一种光刻机掩模预对准系统，第一标记和第二标记位于掩模台；第一光路系统，包括第一照明模块、第一成像模块和第一探测模块；第二光路系统，包括第二照明模块、第二成像模块和第二探测模块；其特征在于，所述第一照明模块包括第一光源单元和第一准直单元，所述第二照明模块包括第二光源单元和第二准直单元，其中，所述第一光路系统与所述第二光路系统的结构相同。