1421.光刻工艺热点的整合方法
发明专利 有权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2017-12-01申请人：上海华力微电子有限公司
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1422.光刻技术显影成分及用于光刻技术图案化的方法
发明专利 有权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2017-01-11申请人：台湾积体电路制造股份有限公司
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1423.光刻投影物镜波像差与最佳焦面的检测方法
发明专利 有权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2017-05-24申请人：中国科学院光电技术研究所
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1424.光刻投影物镜热像差在线预测方法
发明专利 有权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2017-09-01申请人：中国科学院上海光学精密机械研究所
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1425.光刻机原位多通道成像质量检测装置及方法
发明专利 有权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2017-01-11申请人：中国科学院上海光学精密机械研究所
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1426.光刻机原位快速高空间分辨率波像差检测装置及方法
发明专利 有权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2017-01-11申请人：中国科学院上海光学精密机械研究所
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1427.光刻机及其掩膜机台
实用新型 有权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2017-12-15申请人：中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
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1428.光刻用下层膜形成用组合物、光刻用下层膜以及图案形成方法
发明专利 无权
分类号: G03F7/11(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2017-04-19申请人：三菱瓦斯化学株式会社
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1429.光刻的显影辅助方法及其设备
发明专利 在审
分类号: G03F7/26(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2017-08-25申请人：昆山国显光电有限公司
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1431.光刻胶去除用剥离液组合物
发明专利 在审
分类号: G03F7/42(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2017-08-01申请人：易案爱富科技有限公司
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1432.光刻胶图形化方法、半导体结构的制备方法及半导体设备
发明专利 有权
分类号: G03F7/38(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2017-11-21申请人：睿力集成电路有限公司
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1433.光刻胶组合物、形成图案的方法和制造半导体器件的方法
发明专利 在审
分类号: G03F7/039(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2017-08-18申请人：三星电子株式会社
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1434.光刻胶组合物和制造图案化器件的方法
发明专利 在审
分类号: G03F7/075(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2017-07-18申请人：三星电子株式会社
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1435.光刻设备及制造光刻设备的方法
发明专利 有权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2017-02-22申请人：ASML荷兰有限公司
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1436.光刻设备及器件制造方法
发明专利 有权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2017-02-15申请人：ASML荷兰有限公司
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1437.光刻设备和制造光刻设备的方法
发明专利 无权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2017-05-10申请人：ASML荷兰有限公司
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1438.光刻设备和器件制造方法
发明专利 在审
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2017-11-28申请人：ASML荷兰有限公司
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1439.光刻设备和方法
发明专利 有权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2017-04-19申请人：ASML荷兰有限公司
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1440.光刻设备和曝光方法
发明专利 有权
分类号: G03F9/00(2006.01)I G G03 G03F G03F9 申请日期：2017-02-22申请人：ASML荷兰有限公司
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