光刻工艺热点的整合方法

摘要：

本发明提供一种光刻工艺热点的整合方法，包括：提供具有多个光刻工艺热点的图形库；以所述光刻工艺热点为中心，截取每个所述光刻工艺热点对应图形的部分区域，形成初级热点图形库；定义整合规则，去除所述初级热点图形库中的相同图形或相近图形，将所述初级热点图形库整合成未压缩的中级热点图形库；定义压缩规则，设定约束条件、归类相似图形，将所述中级热点图形库压缩为高级热点图形库。本发明中，最终产生的压缩版高级热点图形库匹配精度不下降，热点无遗漏。此外，本发明能够将热点图形库中数以千万计的热点通过整合压缩，最终生成热点数量在千级以内的图形库，减少热点数量，便于热点的进一步有效管理。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201710757929.2

申请日期：2017-08-29

公开/公告号：CN107422613A

公开/公告日：2017-12-01

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:上海华力微电子有限公司

发明/设计人:朱忠华;王伟斌

主申请人地址:201203 上海市浦东新区张江开发区高斯路568号

专利代理机构:上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237

代理人:智云

国别省市代码:上海;31

权利要求：

一种光刻工艺热点的整合方法，其特征在于，包括：提供具有多个光刻工艺热点的图形库；以所述光刻工艺热点为中心，截取每个所述光刻工艺热点对应图形的部分区域，形成初级热点图形库；定义整合规则，去除所述初级热点图形库中的相同图形或相近图形，将所述初级热点图形库整合成未压缩的中级热点图形库；定义压缩规则，设定约束条件、归类相似图形，将所述中级热点图形库压缩为高级热点图形库。