光刻投影物镜波像差与最佳焦面的检测方法

摘要：

本发明提供一种光刻投影物镜波像差与最佳焦面的检测方法，所述方法首先测量光刻投影物镜若干视场点两个不同焦面位置的波像差，再将各视场点波像差拟合为多项式组合。通过分析拟合多项式各项系数随焦面位置变化的特性，计算出各视场点的最佳焦点位置。最后，将各个视场点最佳焦点位置平均得到光刻投影物镜最佳焦面位置，然后由最佳焦面与实测焦面位置之间的偏移量计算得到最佳焦面处各视场点的波像差。本发明能够通过测量各视场点两个不同焦面位置的波像差实现光刻投影物镜最佳焦面的检测，并得到最佳焦面处各视场点的波像差，具有容易实现、高效率和高精度的特点。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201611214860.0

申请日期：2016-12-26

公开/公告号：CN106707696A

公开/公告日：2017-05-24

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:中国科学院光电技术研究所

发明/设计人:许嘉俊;刘志祥;邢廷文;林妩媚

主申请人地址:610209 四川省成都市双流350信箱

国别省市代码:四川;51