光刻机原位多通道成像质量检测装置及方法

摘要：

一种光刻机原位多通道成像质量检测装置及方法，该装置包括光刻机的光源、照明系统、掩模台、投影物镜、工件台和计算机，还包括物面光栅板、波像差传感器。利用该装置原位检测光刻机的成像质量：波像差、畸变与场曲，提高了成像质量检测的并行通道数和检测速度。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201510325941.7

申请日期：2015-06-15

公开/公告号：CN106324996A

公开/公告日：2017-01-11

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:中国科学院上海光学精密机械研究所

发明/设计人:唐锋;李杰;王向朝;冯鹏;徐世福;卢云君

主申请人地址:201800 上海市嘉定区上海市800－211邮政信箱

专利代理机构:上海新天专利代理有限公司 31213

代理人:张泽纯%张宁展

国别省市代码:上海;31