光刻设备及制造光刻设备的方法

摘要：

一种光刻设备包括：通道(46)，用于两相流从其中通过，其中通道形成在块体内，所述块体具有第一材料(100)；第二材料(160)，介于第一材料和通道之间，其中第二材料具有大于第一材料的比热容的比热容；和第三材料(90)，介于第二材料和通道之间，其中第三材料具有大于第二材料的导热率的导热率。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201580031089.0

申请日期：2015-05-07

公开/公告号：CN106462082A

公开/公告日：2017-02-22

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:ASML荷兰有限公司

发明/设计人:R·H·M·考蒂;C·W·J·贝德伦森;A·B·珍宁科;A·H·考沃埃特斯;J·V·奥沃卡姆普;S·A·特姆普;V·V·伟越;D·E·R·阿登纳特德

主申请人地址:荷兰维德霍温

专利代理机构:中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人:王静

国别省市代码:荷兰;NL

权利要求：

一种光刻设备，包括：通道，用于两相流从其中通过，其中通道形成在块体内，所述块体具有第一材料；第二材料，介于第一材料和通道之间，其中第二材料具有大于第一材料的比热容的比热容和/或小于第一材料的导热率的导热率；和第三材料，介于第二材料和通道之间，其中第三材料具有大于第二材料的导热率的导热率。