光刻的显影辅助方法及其设备

摘要：

本发明涉及一种光刻的显影辅助方法及其设备，所述方法包括：获取基板存在光刻线宽异常的区域及所述区域的线宽偏离目标线宽的数值；将非接触式加热装置移动至基板的所述区域，根据所述数值设置加热温度和加热时间对所述基板进行局部加热，以对基板上的光刻胶的显影进行热补偿；对所述光刻胶进行显影。本发明通过对基板存在光刻线宽异常的区域进行局部加热，起到对基板和光刻胶的热补偿作用，减少补偿处光刻胶中溶剂的含量，从而改变光刻胶曝光显影特性，最终实现改善线宽均一性的目的。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201710283921.7

申请日期：2017-04-26

公开/公告号：CN107092168A

公开/公告日：2017-08-25

主分类号：G03F7/26(2006.01)I

申请/专利权人:昆山国显光电有限公司

发明/设计人:朱刚;杨档;王仁松;张若天;彭明行

主申请人地址:215300 江苏省苏州市昆山市开发区龙腾路1号4幢

专利代理机构:广州华进联合专利商标代理有限公司 44224

代理人:唐清凯

国别省市代码:江苏;32

权利要求：

一种光刻的显影辅助方法，包括：获取基板存在光刻线宽异常的区域及所述区域的线宽偏离目标线宽的数值；将非接触式加热装置移动至基板的所述区域，根据所述数值设置加热温度和加热时间对所述基板进行局部加热，以对基板上的光刻胶的显影进行热补偿；对所述光刻胶进行显影。