光刻设备和方法

摘要：

光刻设备包括光学传感器(24)、可移动主体(20)、支撑件、偏转器系统(22)、第一驱动系统和第二驱动系统。可移动主体能够相对于传感器移动。支撑件用于保持传感器。第一驱动系统被设置为使可移动主体相对于传感器移动。第二驱动系统被设置为使第一驱动系统相对于传感器移动。第二驱动系统被设置为使偏转器系统相对于传感器移动。可移动主体的移动引起扰动。偏转器系统被设置为形成用于将扰动反射离开支撑件的偏转区域。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201580043589.6

申请日期：2015-06-25

公开/公告号：CN106575087A

公开/公告日：2017-04-19

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:ASML荷兰有限公司

发明/设计人:G·纳齐博格鲁;S·考斯吉恩斯;F·J·J·范鲍克斯台尔;E·范德帕斯奇;A·奈斯特;L·索桑娜

主申请人地址:荷兰维德霍温

专利代理机构:中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人:吴敬莲

国别省市代码:荷兰;NL

权利要求：

一种光刻设备，包括：光学传感器(24)；可移动主体(20)，所述可移动主体能够相对于所述传感器(24)移动；支撑件(48)，用于保持所述传感器(24)；偏转器系统(22)；第一驱动系统(56)；第二驱动系统(52)；其中所述第一驱动系统(56)被设置为使可移动主体(20)相对于传感器(24)移动，其中所述第二驱动系统(52)被设置为使第一驱动系统(56)相对于传感器(24)移动，其中所述第二驱动系统(52)被设置为使偏转器系统(22)相对于传感器(24)移动，其中所述可移动主体(20)的移动引起扰动，其中所述偏转器系统(22)被设置为形成用于将扰动反射离开支撑件(48)的偏转区域(210)。