光刻系统

摘要：

本实用新型提供一种光刻系统。在一个实施方式中，一种光刻系统包括：卡盘，所述卡盘具有基板接收表面；处理单元，所述处理单元设置在所述卡盘上方；一个或多个通气口，所述一个或多个通气口设置在所述处理单元上方；气源，所述气源耦接到所述一个或多个通气口；以及排放端口，所述排放端口设置在所述卡盘下方。

专利类型：实用新型

申请/专利号：CN201621353213.3

申请日期：2016-12-09

公开/公告号：CN206584158U

公开/公告日：2017-10-24

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:应用材料公司

发明/设计人:B·M·约翰斯通;J·怀特;T·莱帝克

主申请人地址:美国加利福尼亚州

专利代理机构:上海专利商标事务所有限公司 31100

代理人:侯颖媖

国别省市代码:美国;US

权利要求：

一种光刻系统，所述光刻系统包括：卡盘，所述卡盘具有基板接收表面；处理单元，所述处理单元设置在所述卡盘上方；一个或多个通气口，所述一个或多个通气口设置在所述处理单元上方；气源，所述气源耦接到所述一个或多个通气口；以及排放端口，所述排放端口设置在所述卡盘下方。