光刻设备及器件制造方法

摘要：

一种与光刻设备一起使用的系统，所述系统被配置用于处理衬底，其中所述系统适于连接至气体源(30)，所述系统包括：衬底通过的空间(105)；和用于将所述空间与源于所述空间外部的热负载热绝缘的热屏蔽件(110)，所述热屏蔽件包括：第一壁(1100)和第二壁(1200)且在所述第一壁和第二壁之间具有间隙(1300)，所述第一壁定位在所述空间与所述第二壁之间；至少一个入口开口(1400)，所述至少一个入口开口被配置用于允许来自所述气体源的气体流(212)从所述空间的外部进入所述间隙；和至少一个出口开口(1500)，所述至少一个出口开口被配置用于允许气体流离开所述间隙至所述空间的外部，其中所述系统适于引导来自所述气体源的气体流，使所述气体流通过所述至少一个入口开口进入所述间隙、流动通过所述间隙并且通过至少一个出口开口流出所述间隙至所述空间外部，从而减少由于源于所述空间外部的热负载而引起的所述空间中的热波动。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201580023034.5

申请日期：2015-03-17

公开/公告号：CN106415395A

公开/公告日：2017-02-15

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:ASML荷兰有限公司

发明/设计人:G·A·H·F·詹森;M·范巴伦

主申请人地址:荷兰维德霍温

专利代理机构:中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人:王静

国别省市代码:荷兰;NL

权利要求：

一种与光刻设备一起使用的系统，所述系统被配置用于处理衬底，其中所述系统适于连接至气体源，所述系统包括：衬底通过的空间；和用于将所述空间与源于所述空间外部的热负载热绝缘的热屏蔽件，所述热屏蔽件包括：第一壁和第二壁，且在所述第一壁和第二壁之间具有间隙，所述第一壁定位在所述空间与所述第二壁之间；至少一个入口开口，所述至少一个入口开口被配置用于允许来自所述气体源的气体流从所述空间的外部进入所述间隙；和至少一个出口开口，所述至少一个出口开口被配置用于允许气体流离开所述间隙至所述空间的外部，其中所述系统适于引导来自所述气体源的气体流，使所述气体流通过所述至少一个入口开口进入所述间隙、流动通过所述间隙并且通过至少一个出口开口流出所述间隙至所述空间外部，从而减少由于源于所述空间外部的热负载而引起的所述空间中的热波动。