光刻胶去除用剥离液组合物

摘要：

本发明的光刻胶去除用剥离液组合物具有如下的优点，即，即使未将对环境和人体有害的N‑甲基甲酰胺(N‑methylforamide，NMF)、N‑甲基吡咯烷酮(N‑methylpyrrolidone，NMP)作为主溶剂使用，也可在完成干式或湿式蚀刻后迅速剥离所改性的光刻胶，并且由于未在基板上残留异物及污痕，因此可明显提高工序上的效率。并且，还可使底膜的腐蚀最小化，从而具有可明显提高工序上的效率地优点。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201710053375.8

申请日期：2017-01-22

公开/公告号：CN106997158A

公开/公告日：2017-08-01

主分类号：G03F7/42(2006.01)I

申请/专利权人:易案爱富科技有限公司

发明/设计人:金珉姬;郑玄铁;李相大

主申请人地址:韩国京畿道

专利代理机构:上海弼兴律师事务所 31283

代理人:薛琦

国别省市代码:韩国;KR

权利要求：

一种光刻胶去除用剥离液组合物，其特征在于，包含10重量百分比至80重量百分比的N‑乙基甲酰胺、1重量百分比至30重量百分比的胺化合物以及10重量百分比至80重量百分比的质子性极性溶剂。