光刻胶组合物和制造图案化器件的方法

摘要：

公开光刻胶组合物和制造图案化器件的方法。所述光刻胶组合物包括：包括结合有含硅离去基团的重复单元的光刻胶聚合物、包括氟化锍的光致产氟剂、和溶剂。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201611121178.7

申请日期：2016-12-08

公开/公告号：CN106959586A

公开/公告日：2017-07-18

主分类号：G03F7/075(2006.01)I

申请/专利权人:三星电子株式会社

发明/设计人:朴珍;金贤友;韩镇圭

主申请人地址:韩国京畿道

专利代理机构:北京市柳沈律师事务所 11105

代理人:金拟粲

国别省市代码:韩国;KR

权利要求：

光刻胶组合物，其包括：包括结合有含硅离去基团的重复单元的光刻胶聚合物；包括氟化锍的光致产氟剂；和溶剂。