661.一种掩模板、曝光方法和曝光设备
发明专利 有权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2014-06-25申请人：鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 京东方科技集团股份有限公司
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662.一种掩模板盒
发明专利 无权
分类号: G03F1/66(2012.01)I G G03 G03F G03F1 申请日期：2014-04-09申请人：京东方科技集团股份有限公司 北京京东方显示技术有限公司
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663.一种掩模颗粒度检测装置
实用新型 有权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2014-09-17申请人：上海微电子装备有限公司
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664.一种掩膜板
发明专利 无权
分类号: G03F1/00(2012.01)I G G03 G03F G03F1 申请日期：2014-08-06申请人：京东方科技集团股份有限公司 成都京东方光电科技有限公司
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665.一种掩膜板
实用新型 有权
分类号: G03F1/38(2012.01)I G G03 G03F G03F1 申请日期：2014-06-18申请人：北京京东方光电科技有限公司 京东方科技集团股份有限公司
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666.一种掩膜板、基板及基板的制作方法
发明专利 有权
分类号: G03F1/80(2012.01)I G G03 G03F G03F1 申请日期：2014-01-15申请人：北京京东方光电科技有限公司
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667.一种掩膜板、基板及显示装置
发明专利 有权
分类号: G03F1/00(2012.01)I G G03 G03F G03F1 申请日期：2014-02-19申请人：京东方科技集团股份有限公司 合肥鑫晟光电科技有限公司
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668.一种掩膜板及其制造方法
发明专利 无权
分类号: G03F1/62(2012.01)I G G03 G03F G03F1 申请日期：2014-07-02申请人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
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669.一种掩膜板及其制造方法
发明专利 有权
分类号: G03F1/54(2012.01)I G G03 G03F G03F1 申请日期：2014-10-01申请人：北京京东方光电科技有限公司
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670.一种掩膜板和曝光方法
发明专利 有权
分类号: G03F1/00(2012.01)I G G03 G03F G03F1 申请日期：2014-11-26申请人：京东方科技集团股份有限公司 北京京东方显示技术有限公司
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671.一种掩膜板检测装置和方法
发明专利 无权
分类号: G03F1/84(2012.01)I G G03 G03F G03F1 申请日期：2014-11-19申请人：京东方科技集团股份有限公司 北京京东方显示技术有限公司
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672.一种掩膜板组及应用掩膜板组检测套刻精度的方法
发明专利 有权
分类号: G03F1/44(2012.01)I G G03 G03F G03F1 申请日期：2014-04-09申请人：合肥京东方光电科技有限公司 京东方科技集团股份有限公司
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674.一种掩膜版修复方法
发明专利 无权
分类号: G03F1/72(2012.01)I G G03 G03F G03F1 申请日期：2014-05-07申请人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
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675.一种掩膜版回推机构
发明专利 有权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2014-11-12申请人：上海微电子装备有限公司
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676.一种掩膜版的光学临近修正方法
发明专利 有权
分类号: G03F1/36(2012.01)I G G03 G03F G03F1 申请日期：2014-02-12申请人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
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677.一种掩膜版除尘装置
发明专利 无权
分类号: G03F1/82(2012.01)I G G03 G03F G03F1 申请日期：2014-08-20申请人：上海华力微电子有限公司
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678.一种提高光刻机工件台定位精度的方法
发明专利 有权
分类号: G03F7/20(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2014-05-14申请人：上海微电子装备有限公司
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679.一种提高光学邻近效应修正模型精度的方法
发明专利 无权
分类号: G03F1/36(2012.01)I G G03 G03F G03F1 申请日期：2014-05-07申请人：上海集成电路研发中心有限公司
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680.一种提高感光材料的曝光精度的方法
发明专利 无权
分类号: G03F7/11(2006.01)I G G03 G03F G03F7 申请日期：2014-07-23申请人：京东方科技集团股份有限公司
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