一种掩膜板组及应用掩膜板组检测套刻精度的方法

摘要：

本发明公开了一种掩膜板组及应用掩膜板组检测套刻精度的方法，用以提供一种新型的掩模板组以及利用该掩模板组检测套刻精度的方法。所述掩膜板组包括：第一掩模板和至少一个第二掩模板；所述第二掩模板上包括一个或多个用于检测套刻精度的点位；所述第一掩模板上与所述点位对应的区域设置有至少一个第一套刻标记，所述第一套刻标记为设定长度的线段；所述第二掩模板上与所述点位对应的区域设置有与所述第一套刻标记一一对应的第二套刻标记，所述第二套刻标记设定长度的线段；所述第一套刻标记和第二套刻标记在第一掩模板上的投影相交且具有设定夹角。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201310693917.X

申请日期：2013-12-16

公开/公告号：CN103713467A

公开/公告日：2014-04-09

主分类号：G03F1/44(2012.01)I

申请/专利权人:合肥京东方光电科技有限公司%京东方科技集团股份有限公司

发明/设计人:张玉虎;汪雄;李丽丽

主申请人地址:230012 安徽省合肥市新站区铜陵北路2177号

专利代理机构:北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291

代理人:黄志华

国别省市代码:安徽;34

权利要求：

一种掩膜板组，其特征在于，包括第一掩模板和至少一个第二掩模板；所述第二掩模板上包括一个或多个用于检测套刻精度的点位；所述第一掩模板上与所述点位对应的区域设置有至少一个第一套刻标记，所述第一套刻标记为设定长度的线段；所述第二掩模板上点位所在区域设置有与所述第一套刻标记一一对应的第二套刻标记，所述第二套刻标记为设定长度的线段；同一点位对应的第一套刻标记和第二套刻标记在第一掩模板上的投影相交且具有设定夹角。